集成电路光刻制造技术进展

发布时间:2018-12-06发布部门:理学院

主题:   集成电路光刻制造技术进展主讲人:   刘小虎地点:   松江校区第一教学楼1417教室时间:   2018-12-06 18:00:00组织单位:   理学院

主讲人简介:刘小虎,上海华力微电子有限公司光刻工艺主任级工程师,2012年硕士毕业于东华大学材料学院(理学院共建方向)。熟悉55nm、28nm光刻制造工艺,熟悉NIKON和ASML I-line、KrF、ArF Dry、ArF IMM等各类型光刻机。曾赴日本NIKON公司进行培训,在公司NIKON和ASML浸没式光刻机量产及性能改善等方面做出重要贡献。

内容摘要:从沙子到芯片,从PN结到IC,介绍集成电路制造的过程及相关模块;结合摩尔定律,重点讲解集成电路制造中的一项关键技术——光刻制造技术的原理、步骤以及技术进展;介绍国内集成电路制造相关公司和行业发展。

视频:   摄影: 撰写:张菁  信息员:唐晓亮  编辑:朱一超

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