近期热点

大规模集成电路及先进光刻工艺

发布时间:2016-11-23发布部门:理学院

主题:大规模集成电路及先进光刻工艺

主讲人:刘小虎

时间:2016-11-25 13:00:00

地点:松江校区第二教学楼2414教室

组织单位:理学院

主讲人简介:

刘小虎,2012年毕业于东华大学材料科学与工程学院,硕士研究生。目前在上海华力微电子有限公司工作,光刻工艺主任(二级)工程师,主要负责前段光刻工艺,在公司NIKON浸没式光刻机量产,28nm套刻精度改善方面做出重要贡献。熟悉55LP/CIS/HV等制造工艺,以及NIKON/ASML各类型光刻机,曾赴日本NIKON公司进行培训。

内容摘要:

集成电路技术让电子设备体积越来越小,价格越来越低,性能越来越好。从沙子到芯片、从PN结到集成电路,全面介绍集成电路产业链及芯片制造工艺。进一步地,结合分辨率和数值孔径等,详细介绍光刻机及先进光刻工艺。最后介绍集成电路制造公司组织框架、相关职位,以及国内外相关公司情况等。

讲座主持:张菁教授

 

视频: 摄影: 撰写:张菁 信息员:唐晓亮 编辑:段然